溫度控制:通過軟件上的人機交互界面直接設置所需的溫度值,計算機軟件將指令處理到高溫爐的加熱控制器??刂破魍ㄟ^溫度傳感器(熱電偶)讀取樣本區域的實際溫度值,并通過其內部模糊控制PID調整輸出電流。一般來說,溫度在其精度范圍內是穩定的,以實現用戶所需的不同溫度。

  磁場控制:用戶可以通過軟件直接設置所需的磁場大小,通過精度高斯計讀取實際磁場值,然后將實際讀取的磁場值反饋給精度恒流電源。經過電源內部軟件處理后,用戶可以直接控制精度恒流電源的輸出電流,從而實現用戶所需的磁場并實時顯示在軟件上。

  真空環境:通過分子泵組獲得真空環境,由高真空全量程真空計顯示和監控,檢測結果實時傳輸到計算機。

  退火工藝:在強磁場(或非磁性)環境中加熱樣品,將其加熱到一定溫度(用戶需要自行設置)并保持該溫度,然后繼續添加磁場(可以隨時改變),達到用戶目的后,關閉磁場,關閉加熱環境,并將其冷卻到室溫。

  樣品環境:該高溫退火爐可以將被測樣品同時放置在強磁場、高真空和高溫環境中。同時,這三種實驗環境也可以單獨或任意組合,以滿足不同環境中不同樣品的測試要求。

  高溫磁場加熱爐系統是分子泵組中的機械泵(干泵)先使真空室(樣品室)變粗糙。當達到分子泵的限度真空時,打開分子泵進行高真空提取,以達到客戶所需的真空。打開軟件,在軟件中輸入所需的磁場值和溫度值,通過閉環反饋調節,使設備中樣品的溫度自動控制并穩定在一定的溫度值。軟件可以根據用戶給定的實驗條件完成實驗。

  高溫退火爐的適用范圍:在高溫、高真空、強磁場環境下需要加熱或退磁的各種軟磁材料。

高溫退火爐的性能及應用范圍分析


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